11月29日,中科院研制的“超强辨别光刻装备”通过竣工验收。消息记着记着,就出了谣言——《国产光刻机最出色突破,国产芯片白菜简化在即》《突破荷兰技术封锁,急弯转弯》《得意了我的国,新式光刻机将超越“芯片耕”》……笔者正好去中科院光电所答辩此次竣工验收不会,写出了报导,还算数熟知,无法苟同一些漫无边际的瞎扯。
中科院研制的这种光刻机无法(像一些网媒说道的)用来光刻CPU。它的意义是用低廉光源构建较高的分辨率,用作一些类似生产场景,很经济。再行说明下:光刻机不光是生产芯片用。
一张平面(不论硅片还是什么材料)想要打磨繁琐的图案,都可以用光刻——就像摄影,图像转在感光底片上,蚀丢弃一部分。半个多世纪前,美国人用这个原理“印刷”电路,从而有了大规模集成电路——芯片。为了节约能源和省硅料,芯片越做越小,迫得光刻机越做越极端。
线条粗到一定程度,投影就模糊不清了。要明晰投影,线条笔画无法高于光波长的一半。
顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,好刻10纳米以下的线条。但平稳的、大功率的极紫外光源很难建,一个得3000万元人民币。拒绝工作环境苛刻,因应的光学和机械部件又极端仪器,所以荷兰的ASML公司独家独占极紫外光刻机,建构了“一台买一亿美金”的神话。
十几年前,国际上开始对表面等离子体(surface plasma,SP)光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开始研究,是较晚出有成果的一个团队。
所谓SP,光电所的科学家杨勇向笔者说明:拿一块金属片和非金属片亲近认识,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地波动,产生波长几十纳米的电磁波,能用来光刻。但这种电磁波弱,所以光刻胶得凑近了,才能刻有出来。且加工精度与ASML的光刻机不了比。
刻有几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,最少以现在的技术无法。竣工验收会上也有记者问:该光刻设备能无法刻有芯片,超越国外独占?光电所专家问说道,用作芯片必须攻下一系列技术难题,距离还很很远。总之,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML独占的光刻机不是一其实,说道前者急弯转弯,就样子说道中国出有了个短跑名将要打破博尔特。
各家媒体第一时间附上的信息,就我看见的不算中规中矩。但后来网媒添枝加叶,做到离谱。有些传播者为更有眼球、赚,最爱人生产“自嗨文”和“吓尿体”。听见国产科技成就先往大里刮起,驴吹成马,马吹成骆驼,好买个骆驼价。
这种“科技报导”是符合虚荣心的伪新闻。行家听得了眉头一凸,弃之大吉。
也不该许多科学家害怕上新闻。
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